■ 일시 : 2010년 2월 25일(목)/26일(금) 13:00-18:00 ■ 장소 : 연세대학교 제2공학관 B201호 - 등록자는 워크샵 참가증서(pdf 파일) 수여(한국입자에어로졸학회장 명의) - 프로그램 (사회: 한국생산기술연구원 유경훈 수석연구원) □ 첫째날 12:30-13:00 등록 12:30-13:00 반도체 제조공정 DVD Silicon Run I (2nd Edition) 상영 [국제반도체장비재료협회(SEMI, Semiconductor Equipment and Materials International) 제작, 2004] 13:00-13:10 인사말 [한국입자에어로졸학회 회장 최만수] 13:10-14:00 Aerosol engineering of nanoparticles [서울대학교 최만수 교수] 14:00-14:50 극자외선노광(EUVL) 포토마스크 입자오염제어 [한양대학교 육세진 교수] 14:50-15:40 Particle Beam Mass Spectrometer (PBMS)를 이용한 실시간 나노입자측정 [성균관대학교 김태성 교수] 15:40-16:10 Coffee Break 16:10-17:00 반도체 및 디스플레이 제조환경에서의 오염입자 모니터링 [(주)에이치시티 윤진욱 책임연구원] 17:00-17:50 반도체 디바이스 제조공정에서의 입자오염제어기술 [삼성전자(주) 반도체총괄 이건형 수석] 17:50-18:00 종합 토론 및 건의 [진행 : 사회자] □ 둘째날 12:30-13:00 등록 12:30-13:00 반도체 제조공정 DVD Silicon Run Deposition 상영 [국제반도체장비재료협회(SEMI, Semiconductor Equipment and Materials International) 제작, 2004] 13:00-13:50 전기수력학 방식을 이용한 에어로졸 입자 발생 및 응용 [연세대학교 황정호 교수] 13:50-14:40 레이저프린터에서 발생하는 입자 측정 및 평가 [한양대학교 안강호 교수] 14:40-15:30 나노물질, 나노제품의 안전성과 상용화 [삼성전자(주) 지준호 책임연구원] 15:30-16:00 Coffee Break 16:00-16:50 Bio 응용 공기청정기술 [LG전자(주) 이성화 책임연구원] 16:50-17:40 나노입자를 이용한 유연 전기소자공정구현 [한국과학기술원 고승환 교수] 17:40-18:00 종합 토론 및 건의 [진행 : 사회자] - 참가신청 안내 (2010년 2월 23일 오후 4시 등록마감) * e-mail (aerosol@plaza.snu.ac.kr)로 첨부된 신청서를 꼭 작성하여 제출해 주십시오. 미제출시 등록확인이 어렵습니다.(명찰 및 자료집 수령시 필요) - 참가비 : 일반회원 5만원, 학생회원 3만원 - 문의 : 02)885-8835, 010-4485-8835, 담당자 : 최다래 간사